本书提炼了模拟集成电路设计的基本概念和精华。首先对MOST和BJT两种器件模型进行分析和比较；然后以此为两条线索，分别介绍相应的基本单元电路，详细分析各类放大器；随后分别研究噪声、失真、滤波器、ADC/DAC和振荡器电路等，每一章都结合MOST和BJT两种电路进行分析与比较。本书既侧重于基础知识，对模拟和混合信号集成电

基于FPGA的电子系统设计技术是21世纪电子应用工程师必备的基本技能之一，而基于FPGA的EDA和SOPC设计技术是当前电子系统设计领域最前沿的技术。本书从Altera公司的FPGA+EDA软件+硬件描述语言VHDL+Verilog+SOPCBuilder的设计方法出发，使读者在掌握了VHDL和VetrilogHDL后

本书在内容和结构上进行了精心的选择和编排，进一步减少了小规模数字集成电路的内容，突出了中、大、超大规模数字集成电路的应用和数字系统设计，电子设计自动化等内容，既兼顾了数字电路的基本理论和经典内容。

本书作者是斯坦福大学教授，全书系统论述了微电子电路设计的原理与方法，是一本在北美广泛使用的教材。书中不仅给出了基本理论，而且给出了大量电子电路设计的实例，可以作为研究人员与工程人员的参考读物,也可作为高校学生的教材。

本书是一本介绍半导体集成电路和器件制造技术的专业书，在半导体领域享有很高的声誉。本书的讨论范围包括半导体工艺的每个阶段：从原材料的制备到封装、测试和成品运输，以及传统的和现代的工艺。全书提供了详细的插图和实例，并辅以小结和习题，以及丰富的术语表。第六版修订了微芯片制造领域的新进展，讨论了用于图形化、掺杂和薄膜步骤的先进

光刻是集成电路制造的核心技术，光刻工艺成本已经超出集成电路制造总成本的三分之一。在集成电路制造的诸多工艺单元中，只有光刻工艺可以在硅片上产生图形，从而完成器件和电路三维结构的制造。计算光刻被公认为是一种可以进一步提高光刻成像质量和工艺窗口的有效手段。基于光刻成像模型，计算光刻不仅可以对光源的照明方式做优化，对掩模上图形

本书以AltiumDesigner14为基础，介绍了电路设计的各种基本操作方法与技巧。本书共10章，主要内容包括：AltiumDesigner14概述、原理图开发环境及设计、原理图的设计—集成功放电路、创建元件库及元件的封装、原理图的高级应用、层次化原理图的设计、PCB设计基础、PCB的设计、PCB的规则设置、PCB的

《纳米体硅CMOS工艺逻辑电路单粒子效应研究/清华大学优秀博士学位论文丛书》深入研究了纳米体硅CMOS工艺逻辑电路中单粒子效应的产生与传播受电路工作电压、频率和版图结构等电路内在因素，以及温度和总剂量两种空间环境变量的影响规律及其机理。具体包括：①量化了SEU软错误在逻辑电路中的传播概率模型，并将其应用到单粒子效应的实

本书以2020年正式发布的全新AltiumDesigner20电子设计工具为基础。AlfiumDesigner20全面兼容之前各版本。全书共12章，详细介绍了AltiumDesigner20汉化版的能、作方法和实际应用技巧。该书集作者十多年PCB设计的实际工作经验和从事该课程教学的深刻体会于一体，从实际应用出发，

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