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激光热敏光刻
激光热敏光刻具有以下特点: 1) 宽波段光刻, 这类光刻胶的吸收光谱一般都覆盖从近红外到极紫外的整个光刻曝光的波段, 可以称之为宽波段光刻胶; 2) 突破衍射极限的光刻, 光刻特征尺寸不再受制于光学衍射极限, 而是取决于热致结构变化区域的尺寸; 3) 跨尺度光刻, 光刻中激光光斑的强度一般呈高斯分布, 光斑中心的温度高, 沿四周扩散并逐渐降低, 通过调控热扩散通道和曝光策略, 能实现跨尺度光刻; 4) 亚纳米甚至原子级别的图形分辨率, 热敏光刻胶一般是无机非金属薄膜, 其基本的组成单元是原子, 这也决定了热敏光刻的图形结构的分辨率和边缘粗糙度能达到亚纳米甚至原子级别; 5) 光刻工艺流程大为简化, 热敏光刻胶采用无机非金属薄膜材料, 没有交联剂和光酸剂等中间物质, 光刻不需要固化、前烘和后烘等处理, 光刻过程也不会产生气泡等负产物, 光刻流程只有涂胶、曝光、刻蚀、清洗, 因此光刻工艺大为简化。
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